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博士論文 / 難加工基板の高効率・高精度研磨手法に関する研究 Study on high efficiency and high precision polishing method for hard-to-process material

著者

書誌事項

タイトル

難加工基板の高効率・高精度研磨手法に関する研究

タイトル別名

Study on high efficiency and high precision polishing method for hard-to-process material

著者名

鬼木喬玄

学位授与大学

九州工業大学 (大学ID:0071) (CAT機関ID:KI000844)

取得学位

博士(情報工学)

学位授与番号

甲情工第331号

学位授与年月日

2017-12-27

注記・抄録

九州工業大学博士学位論文 学位記番号:情工博甲第331号 学位授与年月日:平成29年12月27日

第1章 緒論|第2章 CMP(Chemical Mechanical Polishing)技術|第3章 パッド表面形状を制御したマイクロパターンパッド|第4章 低屈折率透明パッドの開発|第5章 異なる材料を利用した形状発現型ポリシングパッドの開発|第6章 結論

平成29年度

九州工業大学博士学位論文(要旨)学位記番号:情工博甲第331号 学位授与年月日:平成29年12月27日

キーワード

モニタリング, CMP, ポリシングパッド, パッド表面形状, パッド材料

各種コード

NII論文ID(NAID)

500001086432

NII著者ID(NRID)
  • 8000001440308
本文言語コード

jpn

データ提供元

機関リポジトリ / NDLデジタルコレクション

博士論文 / 九州工業大学 / 情報工学

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