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博士論文 / Study on Kinetics of Nickel Silicidation of Silicon Nanowire and Its Application to Thermoelectric Device シリコンナノ細線のニッケルシリサイド化速度論およびその熱電デバイスへの応用に関する研究

書誌事項

タイトル

Study on Kinetics of Nickel Silicidation of Silicon Nanowire and Its Application to Thermoelectric Device

タイトル別名

シリコンナノ細線のニッケルシリサイド化速度論およびその熱電デバイスへの応用に関する研究

学位授与大学

早稲田大学 (大学ID:2140) (CAT機関ID:KI002781)

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第5447号

学位授与年月日

2018-03-15

注記・抄録

早大学位記番号:新7859

開始ページ : 1

終了ページ : 115

各種コード

NII論文ID(NAID)

500001059203

本文言語コード

eng

データ提供元

NDLデジタルコレクション

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