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博士論文 / Study on Operating-Temperature Reducing Technique for Silicon-on-Insulator Device by Using a Nano-Crystalline Diamond ナノ結晶ダイヤモンドを利用したSOI素子動作温度の低温化技術に関する研究

著者

書誌事項

タイトル

Study on Operating-Temperature Reducing Technique for Silicon-on-Insulator Device by Using a Nano-Crystalline Diamond

タイトル別名

ナノ結晶ダイヤモンドを利用したSOI素子動作温度の低温化技術に関する研究

著者名

Sethavut Duangchan

学位授与大学

九州工業大学 (大学ID:0071) (CAT機関ID:KI000844)

取得学位

博士(情報工学)

学位授与番号

甲情工第319号

学位授与年月日

2017-03-24

注記・抄録

九州工業大学博士学位論文 学位記番号:情工博甲第319号 学位授与年月日:平成29年3月24日

1 Introduction|2 The ability of heat dissipation of nano-crystalline diamond film|3 Low-temperature bonding mechanism between SiO2 and SiO2|4 Silicon-on-diamond by low-temperature bonding|5 Summary and further study

平成28年度

九州工業大学博士学位論文(要旨)学位記番号:情工博甲第319号 学位授与年月日:平成29年3月24日

目次

  1. 2017-10-02 再収集 / (index.pdf)

キーワード

Reduced operation temperature, Nano-crystalline diamond, NCD, Silicon-on-Insulator, Silicon-on-Diamond, SOD

各種コード

NII論文ID(NAID)

500001036796

NII著者ID(NRID)
  • 8000001141521
本文言語コード

eng

データ提供元

機関リポジトリ / NDLデジタルコレクション

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