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西山 健太朗 - 豊橋技術科学大学 博士(工学) - 酸化物半導体膜の電気化学形成に関する研究

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書誌事項

タイトル

Study on electrochemical preparation of oxide semiconductor films

タイトル別名

酸化物半導体膜の電気化学形成に関する研究

著者名

西山 健太朗

学位授与大学

豊橋技術科学大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第761号

学位授与年月日

2017-03-23

注記・抄録

元資料の権利情報 : CC BY-NC-ND

各種コード

NII論文ID(NAID)
500001033447
NII著者ID(NRID)
  • 8000001142253
本文言語コード
  • eng
大学ID

0085

CAT機関ID

KI000527

データ提供元
  • 機関リポジトリ
  • NDLデジタルコレクション

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