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博士論文 / Study on electrochemical preparation of oxide semiconductor films 酸化物半導体膜の電気化学形成に関する研究

著者

書誌事項

タイトル

Study on electrochemical preparation of oxide semiconductor films

タイトル別名

酸化物半導体膜の電気化学形成に関する研究

著者名

西山健太朗

学位授与大学

豊橋技術科学大学 (大学ID:0085) (CAT機関ID:KI000527)

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第761号

学位授与年月日

2017-03-23

注記・抄録

元資料の権利情報 : CC BY-NC-ND

https://www.tut.ac.jp/university/docs/abstk761.pdf

各種コード

NII論文ID(NAID)

500001033447

NII著者ID(NRID)
  • 8000001142253
本文言語コード

eng

データ提供元

機関リポジトリ / NDLデジタルコレクション

博士論文 / 豊橋技術科学大学 / 工学

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