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土山 和晃 - 豊橋技術科学大学 博士(工学) - 窒化物半導体-シリコン異種ウエハ接合を用いた高密度光電子集積回路の基盤技術

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書誌事項

タイトル

窒化物半導体-シリコン異種ウエハ接合を用いた高密度光電子集積回路の基盤技術

タイトル別名

Monolithic Fabrication Processing of Large-Scale Optoelectronic Integrated Circuits using Si/SiO2/Ⅲ-Nitride Wafe

著者名

土山 和晃

学位授与大学

豊橋技術科学大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第766号

学位授与年月日

2017-03-23

注記・抄録

元資料の権利情報 : CC BY-NC-ND

各種コード

NII論文ID(NAID)
500001033427
NII著者ID(NRID)
  • 8000001142257
本文言語コード
  • jpn
大学ID

0085

CAT機関ID

KI000527

データ提供元
  • 機関リポジトリ
  • NDLデジタルコレクション

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